- 論文題目: 半導體及光電業揮發性有機化合物排放之研究

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- 摘要: 

    半導體及光電業為我國重要產業之一，於環保署統計資料中，2019年半導體產業及光電產業之揮發性有機物污染申報量分別為33670.62公噸及27651.71公噸，因此本研究針對半導體及光電業揮發性有機物的定檢報告進行分析，利用檢測資料及許可資料綜整揮發性有機物排放濃度、排放量、相關防制設備、並計算其排放係數。
    研究結果顯示，半導體產業之揮發性有機物排放濃度範圍為1~147ppm，約91.7%的排放濃度低於22ppm，濃度大於22ppm的製程出現於二極體製程以及積體電路製造程序；光電業之揮發性有機物排放濃度範圍為1~18ppm，大於10ppm的製程為其他光電材料及元件製造程序。研究利用檢測報告之濃度以及排氣量計算其排放量，結果顯示半導體業之揮發性有機物排放量範圍為0.0010~2.7189kg/hr，97.7%的排放量符合法規0.6kg/hr要求，大於0.6kg/hr的製程同樣為二極體製程以及積體電路製造程序；光電業之揮發性有機物排放量範圍為0.0005~0.9628kg/hr，99.2%符合法規0.4kg/hr要求，僅一筆數據(其他光電材料及元件製造程序)大於0.4kg/hr。在半導體和光電業中，常見防制設備為洗滌塔、吸附設備、沸石濃縮轉輪、焚化設備等，半導體業約30%為使用沸石濃縮轉輪，27%使用洗滌塔、16%使用吸附設備，而光電業之防制設備有61%使用洗滌塔，其他約3~7%分別使用吸附設備、沸石濃縮轉輪、焚化設備等防制設備。
    半導體業防制設備的排放量與排放濃度為高度相關，乾基排氣量與排放量的相關性為弱相關或無相關。研究結果顯示：洗滌塔之排放濃度與排放量相關性係數為0.9616、吸附設備之排放濃度與排放量相關性係數為0.8809、沸石濃縮轉輪之排放濃度與排放量相關性係數為0.4906、沸石濃縮轉輪+焚化設備之排放濃度與排放量相關性係數為0.8457。光電產業洗滌塔之排放濃度與排放量相關性係數為0.6618、吸附設備之排放濃度與排放量相關性係數為0.7797、沸石濃縮轉輪之排放濃度與排放量相關性係數為0.4459、沸石濃縮轉輪+焚化設備之排放濃度與排放量相關性係數為0.8175。
    於排放係數計算部分，半導體之二極體製程平均排放係數為23.106kg/m2，此為一家廠商兩筆數據之平均結果，但兩筆數據中，一筆為8.8988kg/m2，低於法規10.2kg/m2，另一筆數據為37.3135kg/m2，大於法規標準；積體電路製程平均排放係數為2.324kg/m2，略高出法規值2.24kg/m2；光電業之液晶顯示器製程排放係數結果為0.0003 kg/m2，低於法規0.18 kg/m2之標準，上述結果顯示製程操作及防制設備操控上仍有可再精進之空間。

關鍵詞: 揮發性有機物、半導體、光電業、排放係數